Characterization of TiNO/TiN films

Publicada el 18 mayo, 2011 por icmmadmin

E. Punzón Quijorna, V. Torres Costa, F. Agulló-Rueda, P. Herrero Fernández, A. Climent, F. Rossi and M. Manso Silván, «TiN_xO_y/TiN dielectric contrasts obtained by ion implantation of O²⁺; structural, optical and electrical properties,» J. Phys. D: Appl. Phys. 44(23), 235501 (2011).

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