Archivo de la etiqueta: HRTEM

Characterization of TiNO/TiN films

Publicada el 18 mayo, 2011 por icmmadmin

E. Punzón Quijorna, V. Torres Costa, F. Agulló-Rueda, P. Herrero Fernández, A. Climent, F. Rossi and M. Manso Silván, «TiNxOy/TiN dielectric contrasts obtained by ion implantation of O2+; structural, optical and electrical properties,» J. Phys. D: Appl. Phys. 44(23), 235501 … Sigue leyendo →

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Characterization of ZnO:Ga thin films on silicon

Publicada el 2 mayo, 2011 por icmmadmin

M. Gabás, P. Díaz-Carrasco, F. Agulló-Rueda, P. Herrero, A. R. Landa-Cánovas, and J. R. Ramos-Barrado, «High quality ZnO and Ga:ZnO thin films grown onto crystalline Si (100) by RF magnetron sputtering,» Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 95, 2327–2334 (2011) .

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